硫化钼层状材料的制备及其光电性能研究任务书

 2021-08-20 23:32:20

1. 毕业设计(论文)主要内容:

石墨烯的出现极大的拓展了二维材料的应用范围,硫化钼作为一种类石墨烯材料具有优良的形貌结构特性,近年来成为了科学研究的热点之一。

硫化钼随着层数的减少,禁带宽度从~1.2 eV(体材料)逐渐增加至~1.9 eV(单层),并且由间接禁带宽度转变为直接禁带宽度材料。

因此,制备少层甚至单层的硫化钼材料是研究其各项性能的关键。

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2. 毕业设计(论文)主要任务及要求

主要任务:

1.文献调研,了解硫化钼层状材料国内外研究概况和发展趋势;

2.采用热注入法制备硫化钼层状材料,确定最佳工艺参数;

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3. 毕业设计(论文)完成任务的计划与安排

1~2周 文献调研,翻译英文文献;

3~5周 整理资料,在任务书的基础上,设计研究方案,确定切实可行的实验技术路线,了解相关的结构和性能的测试方法;撰写开题报告,开题答辩;

6~10周 材料制备和结构表征;

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4. 主要参考文献

1. Gopalakrishnan, D.; Damien, D.; Shaijumon, M. M. MoS2 Quantum Dot-Interspersed Exfoliated MoS2 Nanosheets. ACS Nano 2014, 8, 5297-5303.

2. Lee, Y.-H.; Zhang, X.-Q.; Zhang, W.; Chang, M.-T.; Lin, C.-T.; Chang, K.-D.; Yu, Y.-C.; Wang, J. T.-W.; Chang, C.-S.; Li, L.-J.; Lin, T.-W. Synthesis of Large-Area MoS2 Atomic Layers with Chemical Vapor Deposition. Adv. Mater. 2012, 24, 2320-2325.

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