Ni-W-P镀层制备及其与无铅钎料的界面反应任务书

 2021-08-22 23:24:19

1. 毕业设计(论文)主要内容:

在电子器件内,凸点下金属化层(Under Bump Metallisation)能有效抑制无铅焊点与铜基板的界面扩散反应速率。本课题通过表面沉积技术制备一层Ni-W-P镀层,以改善传统Ni-P凸点化金属层的热学性能和扩散阻挡性能。设计(论文)主要内容:

1. 文献调研,了解国内外相关研究概括和发展趋势;

2. 制备Ni-W-P镀层并对镀层进行结构表征和形貌分析;

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2. 毕业设计(论文)主要任务及要求

1.查阅不少于15篇的参考文献(其中近5年英文文献不少于3篇),完成开题报告;

2.掌握Ni-W-P镀层的制备以及与无铅焊点的形成;

3.观测回流和时效处理下焊接界面的扩散和演变过程;

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3. 毕业设计(论文)完成任务的计划与安排

第1-3周:查阅相关文献资料,完成英文翻译。明确研究内容,了解研究对象结构、测试仪器和设备。确定技术方案,并完成开题报告;

第4-6周:按照技术方案,制备Ni-W-P镀层并形成无铅焊点接头;

第7-10周:观测回流和时效处理下焊接界面的扩散和演变过程。

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4. 主要参考文献

[1] Balaraju J N, Manikandanath N T, Grios V K W. Phase transformationbehavior of nanocrystalline Ni-W-P alloys containing various W and P contents[J]. Surface and Coatings Technology, 2012, (10), 2682-2689.

[2] He FJ, Fang Y Z, Jin S J. The study of corrosion-wear mechanism of Ni-W-P alloy[J]. Wear, 2014, (311): 14-20.

[3]JangM D. Intermetallic compound spalling characteristics of Sn-3.5Ag solder overternary electroless Ni under-bump metallurgy [J]. Journal of MaterialsResearch, 2011, (24): 3032-3037.

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