1. 第一章选题的目的和意义
SiCN薄膜作为一种新型的非晶态材料，因其优异的机械性能、耐高温性能、抗氧化性能以及良好的光学性能等，在微电子、光电子、航空航天等领域具有广泛的应用前景。
传统的SiCN薄膜制备方法如化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)等，存在工艺复杂、成本高、难以精确控制薄膜成分和结构等问题。
激光化学气相沉积(LCVD)技术作为一种新型的薄膜制备技术，具有沉积速率高、可精确控制薄膜成分、制备过程清洁环保等优点，为SiCN薄膜的制备提供了一种新的思路。
2. 第二章应完成的主要内容
本论文主要研究内容包括以下几个方面：首先，搭建LCVD实验平台，并探索SiCN薄膜的制备工艺参数。
这包括选择合适的Si和C源前驱体，确定最佳的激光参数、反应腔压力和基底温度等。
其次，利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS)和拉曼光谱等手段对SiCN薄膜的结构进行表征，分析其成分、微观结构和化学键合状态。
3. 第三章基本要求及完成的成果形式
本论文应在指导老师的指导下独立完成。
要求学生在研究过程中认真查阅相关文献资料，掌握LCVD技术和SiCN薄膜材料的相关知识。
在实验过程中，应严格按照实验操作规程进行，并做好实验记录和数据分析。
4. 计划与进度安排
第一阶段 （2024.12~2024.1）确认选题，了解毕业论文的相关步骤。
第二阶段（2024.1~2024.2）查询阅读相关文献，列出提纲
第三阶段（2024.2~2024.3）查询资料，学习相关论文
5. 参考文献（20个中文5个英文）
1 王海粟. 浅议会计信息披露模式[J]. 财政研究, 2004, 21(1): 56-58.
2 刘丽, 王晓慧, 董鹏, 等. 激光化学气相沉积SiCN薄膜的研究进展[J]. 材料导报, 2017, 31(16): 1-6.
3 张涛, 王志强, 刘大成. SiCN薄膜的制备方法及性能研究进展[J]. 表面技术, 2019, 48(9): 1-10.
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