多孔SiC薄膜的制备及孔径调控任务书

 2022-01-24 16:20:03

全文总字数:3825字

1. 毕业设计(论文)的内容和要求

本课题内容主要为多孔SiC薄膜的制备及孔径调控。

通过化学气相沉积工艺(CVD),采用SiC-C共沉积的方法,实现可调比例的SiC-C共沉积涂层的制备和设计,通过氧化工艺去除C组元从而形成具有特定孔径结构的多孔SiC薄膜。

最后把整个研究内容写成毕业论文。

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2. 实验内容和要求

本课题要开展的实验内容和要求如下:实验工艺流程1、 2.多孔SiC薄膜的制备:1) 以石墨纸为基底模板,用MTS(CH3SiCl3)和C3H6为先驱体原料,H2用作载气,Ar用作稀释及保护气体,在11000C真空炉中缓慢热解,调控反应气体与载气的流量,实现可调比例的SiC-C共沉积涂层的制备和设计2) 通过氧化工艺去除C组元从而形成具有特定孔径结构的多孔SiC薄膜。

2.多孔SiC薄膜的表征:利用XRD、SEM及TEM对等对样品进行涂层厚度、孔径大小、物相、显微结构分析并对其进行表征和性能测试,并利用Origin等软件处理实验数据。

3. 参考文献

根据毕业要求指点2.3,针对复杂科学问题,具有调查研究、检索与阅读中外文献资料的能力,并能在此基础上进行归纳总结和分析论证,提出解决方案。毕业论文期间要进行研究现状调查与总结,要求在开题报告及毕业论文中查阅的中英文文献不少于20篇,其中近5年不少于8篇,英文文献不少于5篇。以下是与本课题相关的部分文献列表: [1] 卢翠英, 成来飞, 赵春年,等. 温度对化学气相沉积碳化硅涂层的影响[J]. 材料科学与工艺, 2010(04):575-578.

[2] 王春雨, 王鑫宇, 唐才宇,等. 石墨表面化学气相沉积SiC及C涂层的制备[J]. 金属热处理, 2011(07):79-83.

[3] 肖鹏, 黄伯云, 徐永东. 沉积条件对CVD-SiC沉积热力学与形貌的影响[J]. 无机材料学报, 2002(04):877-881.

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