1. 毕业设计（论文）的内容和要求
SiO2抛光液良好的分散性是制备性能优异的抛光液最重要的条件之一，本文主要针对SiO2抛光液的分散性能进行研究，将综合考察不同种类的分散剂及添加量对分散液粒径的影响，也将对pH等因素对分散液的分散性能进行考察。通过实验研究，以获得分散性能良好的SiO2分散液。
2. 参考文献
1 Malik F，Hasan M. Manufacturability of the CMP process.T hin Solid Flims,1995.270:612～615.
2 Jairath R, Farkas J, Huang C K, et al, Chemical-mechanical polishing; process manufacturability. Solid State Technology, 1994,7:71～75.
3. J.Xin, W.Cai, J.A.Tichy. A fundamental model proposed for material removal in chemical-mechanical polishing。Wear 268(2010) 837-844.
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