双光栅成像特性研究任务书

 2021-08-20 00:51:21

1. 毕业设计(论文)主要目标:

现阶段在航天航空和现代化武器等军事领域越来越多的涉及到流场的关键参数(密度、温度等)的测量问题。在测量的实际过程中,被测流场往往会在几千度甚至上万度。相关研究问题涉及到热力学、流体力学、气动力学、等离子体物理学等多种学科内容,学科综合性强和测量技术难度大成为复杂流场测量的主要重点与难点。相比于干涉层析技术,莫尔层析技术具有稳定性高、抗干扰能力强的优点,因此,莫尔层析技术对于研究复杂流场方面有着至关重要的意义。我们知道,在莫尔测量技术中,其核心光学元件是双光栅,通过双光栅成像获得记录了被测场折射率信息的莫尔条纹。因此,研究双光栅成像特性对莫尔层析技术的发展有着重要的意义。目前莫尔条纹的讨论还主要集中在相同光栅周期的光栅所产生的图像,而对于选取不同光栅周期的两片光栅对成像的影响还没有被考虑到。总之,论文将为莫尔层析诊断高温复杂流场提供相关的理论基础。

2. 毕业设计(论文)主要内容:

论文中,我们首先通过理论计算得出要形成稳定的、适合光学测量需要的莫尔条纹,两光栅的光栅常数之间的可能关系。然后,通过实验得到相同光栅周期与不同光栅周期的光栅的成像特点。最后,通过计算机进行图像模拟与实验结果进行对比,从而获得双光栅成像的特性。

3. 主要参考文献

[1]Yang Song, YunYun Chen, Anzhi He, and Zhimin Zhao. Opt. 17. 22 (2009).

[2]Yang Song, Yun Yun Chen, Anzhi He, and Zhimin Zhao. J. Opt. Soc. Am. A .26. 4 (2009).[3]O. Kafri and I. Glatt, Opt. Eng. 24, 944 (1985).

[4]Y. Song, Y. Chen, A. He, and Z. Zhao, Opt.Express 17, 20415(2009).

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