Si基片和MgO基片上NbN薄膜微结构分析任务书

 2023-04-14 09:50:29

1. 毕业设计(论文)的内容和要求

对AlN及NbN薄膜有一定了解,掌握AlN及NbN薄膜的制备过程,学会利用X射线衍射(XRD)对得到的薄膜结构进行研究,并对NbN的超导电性进行测量,对AlN薄膜进行抗电测试。

在此基础上完成毕业论文,学会如何撰写论文。

2. 实验内容和要求

内容:(1)分析实验原理,理清实验思路;

(2)查阅相关资料,确定实验方案;

(3)制备AlN及NbN薄膜;

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3. 参考文献

[1]陈亚军,康琳,蔡卫星,等. MgO(111)上NbN和AlN薄膜的生长研究.低温物理学报, 2005,

[2] Knau H, Welti A et al. Sputtered NbN-Films for RF Applications, in Proceedings of Physica C: Superconductivity, Volume 182, Issues 1-3, 20 October, 1991. 39.

[3] 太刀川恭治, 户叶一正. Superconductivity-Breakthrough of High Technology(超导-高技术的突破口). Beijing: Chemical Industry Press(北京: 化学工业出版社), 1992. 40.

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4. 毕业设计(论文)计划

第一阶段:2013.12~2022.1确定论文选题,填写毕业论文任务书、毕业论文选题表。

第二阶段:2022.1~2022.3调研、查阅论文相关资料,确定硅基片和氧化镁基片上薄膜的微结构分析论文大纲。

第三阶段:2022.3~2022.4根据论文大纲,完成论文初稿。

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