1. 毕业设计（论文）的内容和要求
磁控溅射是二十世纪70年代快速发展起来的一种高速且低温溅射镀膜法，该种溅射方法已被广泛应用于光学镀膜、表面处理等领域。磁控溅射具有高速溅射、基板低温、 低损伤等优点。利用磁控溅射方法制备氧化镉薄膜，并研究薄膜的光学性质、导电性能,获得制备最优性能薄膜的优化参数组合。
2. 实验内容和要求
任务内容:（1）整理思路，设计论文大纲；
（2）查阅资料，确定论文的有关料；
（3）将有关知识进行整合，着手写论文；
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3. 参考文献
[1］K．Badeker,Ann，Tranparent conducting CdO obtained by thermal oxidation of sputtered Cd films，Phys．(LeiPzig)，1907，22，749．
[2］张品.磁控溅射法沉积透明导电CdO薄膜的性能优化[D]. 浙江大学, 2007.
[3］周强.有机衬底上沉积禁带宽度可调的CdO透明导电薄膜[D]. 浙江大学, 2006.
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4. 毕业设计（论文）计划
第一阶段： 选题，完成选题报表，填写论文任务书；（2月份）；
第二阶段：收集、查阅与设计相关的资料，拟定论文框架，完成论文初稿（3月上旬）；
第三阶段：接受论文中期检查（3月中旬）；
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